生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW

产品型号

生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW

主要特点

   1、由OTF-1200X-4单温区炉演变而来的紧凑型CVD炉。

   2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层，可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。

   3、带样品支架的右法兰是滑动的，方便样品的快速取放。

   4、左侧的小加热器可对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热，不锈钢加热腔外径30mm、长150mm

    ，蕞高工作温度600℃。

   5、左边法兰（在加热器与CVD炉之间）装有4个1/4″卡套连结的通气管，具有密封和气体通道的作用。

   6、PID自整定数字控制器 ，可以设置30段升降温程序。

   7、选配相关软件可用计算机进行控温。

   8、已通过CE认证。

技术参数

   1、额定电压：单相AC 220V  50/60Hz  

   2、额定功率：3KW（需20A的空气开关）

   3、石英管：外管外径Φ110mm，内径Φ102mm，长381mm

   4、加热区域：CVD炉400mm，加热器150mm，

   5、工作温度：CVD炉蕞高1100℃（<2h），连续工作200℃-1000℃，蕞大升降温速率10℃/min；

          　　      加热器连续工作0-500℃，蕞大升降温速率10℃/min

   6、控温精度：±1℃

   7、热电偶：K型

   8、右法兰：一个3″石英样品支架，与石英挡板、法兰连成一体，设有KF25真空快接口，以及水冷接口（可选配水

                   冷机，避免O型圈融化）

   9、左法兰：有2个独立1/4″口，可单独将任何气体通入炉内，一路1/4″口将预热气体通入CVD炉，一路1/4″口将不加

                   热的气体通入炉内，并通过炉内的T型结构与加热气体汇合

产品规格

尺寸：1200mm×450mm×510mm；重量：100kg

可选配件

   1、水冷机

   2、控温软件