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VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪

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产品名称: VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
产品型号: VTC-16-D
产品展商: 科晶
会员价格: 0.00 元
关注指数:9
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简单介绍

VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸,样品台与溅射头之间的高度在30-80mm之间可以调节。安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射。溅射头对样品的溅射时间在1-120s之间可调,若想获得薄的薄膜,溅射时间可以设置短一点;若想获得厚的薄膜,溅射时间可以长一点。VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪设计主要是制作一些金属薄膜,制膜面积可达到4英寸。设备外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。

VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪

   的详细介绍


产品名称

VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪

产品型号

VTC-16-D

 

主要特点

1、特别为SEM样品镀导电性薄膜设计。

2、体积小巧,操作简单,容易上手。

3、拥有小型磁控靶头,可以镀金银铂等金属。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

技术参数

1、输入电源:220V AC 50/60Hz

2、功率:200W

3、输出电压:500 VDC

4、溅射电流:0-50 mA可调

5、溅射时间:0-120S可调

6、溅射腔体

1)采用石英腔体,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H

2)密封:采用不锈钢平法兰的O形密封圈

7、溅射头&样品台

l)溅射头可安装靶材直径为2英寸,厚度0.1 - 2.5mm

      2)溅射时间1-120S可调

3)仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台,其与溅射头之间距离30-80mm可调。

      4)可选购加热型样品台,其加热温度可达500℃

      5)安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射

6)制膜的直径可达:4英寸(仅供参考,详情请点击)

    

 

8、真空系统

l)安装有KF25真空接口

2)数字真空压力表(Pa

3)此系统可通入气体运行

4< 1.0E-2 Torr (采用机械泵)

5< 1.0E-5 Torr(采用涡旋分子泵)

9、进气

l)设备上配1/4英寸进气口,方便连接气瓶

   2)设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流

10、靶材

   l)靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)

   2)设备标配为铜靶

11、产品外型尺寸

L460 mm × W 330 mm × H 540 mm

 

 

净重:20 kg(不包括泵)

 

 

 

 

 

 

 

 

可选

1、可在本公司选购各种靶材

对于溅射各种金属靶材,需要摸索理想的溅射参数,下表是本公司实验所设置的参数,欢迎您带料来科晶实验室摸索工艺(仅供参考)

靶材种类

真空度(Pa

溅射电流(mA

 时间 (s

溅射次数

Au

31-33

28-30

100

1

Ag

31

28

100

1

 

2、可在本公司选购各种真空泵

 

 

3、可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

   

 

质量认证

CE认证

 

质保期

 

一年保修,终身技术支持。

特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。

         2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

使用提示

 

l、有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜

2、在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净

3、要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面

4、超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声,(2)异丙醇超声-去除油脂,(3)吹氮气干燥,(4)真空烘箱除去水分。

5、等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。

6、制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如GrTiMoTa,可以应用于改善金属和合金的附着力。

7、请使用>5N纯度氩气等离子体溅射

8、溅射镀膜机可以放入ArN2气体手套箱中溅射

9、由于能量低,该模型不适用于涂层的轻金属材料如AlMgZnNi。请考虑我们的磁控溅射镀膜机或热蒸发镀膜机。